我公司研制開發(fā)的新型產(chǎn)品-游離二氧化硅檢測(cè)儀，符合規(guī)范水質(zhì)檢測(cè)方法和相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行曲線預(yù)先編程，并在 Lovibond 標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)出廠嚴(yán)格校準(zhǔn)驗(yàn)證。微電腦離子測(cè)量?jī)x可進(jìn)行一項(xiàng)或多項(xiàng)離子的測(cè)量，當(dāng)加入所配套試劑后，樣品會(huì)發(fā)生顯色反應(yīng)，顯色反應(yīng)的變化與待測(cè)樣品的離子濃度成正比，微電腦離子測(cè)量?jī)x通過對(duì)顏色變化進(jìn)行測(cè)量。當(dāng)光速通過顯色的樣品時(shí)，樣品將吸收通量和特定波長(zhǎng)的光，通過這種吸收前后光強(qiáng)的變化，離子測(cè)量?jī)x中微電腦自動(dòng)檢測(cè)出待測(cè)離子的濃度，并顯示出結(jié)果。

    游離二氧化硅檢測(cè)儀采用特別設(shè)計(jì)并具有技術(shù)的光源（LED），以低能耗提供穩(wěn)定的單色光發(fā)射，*的電路設(shè)計(jì)，使其具備廠家校準(zhǔn)和用戶自定標(biāo)準(zhǔn)雙功能校準(zhǔn)，滿足離子計(jì)具有N.I.S.T標(biāo)準(zhǔn)特征又可采用用戶自我配制設(shè)定的校正標(biāo)準(zhǔn)，使測(cè)量快速、準(zhǔn)確，并確保測(cè)量穩(wěn)定，重現(xiàn)性好。樣品池采用密封防污染設(shè)計(jì)，確保在測(cè)量過程和日常工作中不會(huì)污染和損傷儀器內(nèi)各種精密部件。

   

游離二氧化硅檢測(cè)儀的測(cè)定步驟

    1 將采集的粉塵樣品放在105℃±3℃的烘箱內(nèi)干燥2h，稍冷，貯于干燥器備用。如果粉塵粒子較大，需用瑪瑙研缽研磨至手捻有滑感為止。

    2 準(zhǔn)確稱取0.1000g~0.2000g（G）粉塵樣品于25ml錐形瓶中，加入15ml焦磷酸及數(shù)毫克硝酸銨，攪拌，使樣品全部濕潤。將錐形瓶放在可調(diào)電爐上，迅速加熱到245℃~250℃，同時(shí)用帶有溫度計(jì)的玻璃棒不斷攪拌，保持15min。

    3 若粉塵樣品含有煤、其他碳素及有機(jī)物，應(yīng)放在瓷坩堝或鉑坩堝中，在800℃~900℃下灰化30min以上，使碳及有機(jī)物*灰化。取出冷卻后，將殘?jiān)媒沽姿嵯慈脲F形瓶中。若含有硫化礦物（如黃鐵礦、黃銅礦、輝銅礦等），應(yīng)加數(shù)毫克結(jié)晶硝酸銨于錐形瓶中。再按照4.5.2加焦磷酸及數(shù)毫克硝酸銨加熱處理。

    4取下錐形瓶，在室溫下冷卻至40℃~50℃，加50℃~80℃的蒸餾水至約40ml ~45ml，一邊加蒸餾水一邊攪拌均勻。將錐形瓶中內(nèi)容物小心轉(zhuǎn)移入燒杯，并用熱蒸餾水沖洗溫度計(jì)、玻璃棒和錐形瓶，洗液倒入燒杯中，加蒸餾水約至150ml~200ml。取慢速定量濾紙折疊成漏斗狀，放于漏斗并用蒸餾水濕潤。將燒杯放在電爐上煮沸內(nèi)容物，稍靜置，待混懸物略沉降，趁熱過濾，濾液不超過濾紙的2/3處。過濾后，用0.1mol鹽酸洗滌燒杯，并移入漏斗中，將濾紙上的沉渣沖洗3~5次，再用熱蒸餾水洗至無酸性反應(yīng)為止（用pH試紙?jiān)囼?yàn)）。如用鉑坩堝時(shí)，要洗至無磷酸根反應(yīng)后再洗3次。上述過程應(yīng)在當(dāng)天完成。

    5 將有沉渣的濾紙折疊數(shù)次，放入已稱至恒量（m1）的瓷坩堝中，在電爐上干燥、炭化；炭化時(shí)要加蓋并留一小縫。然后放入高溫電爐內(nèi)，在800℃~900℃灰化30min；取出，室溫下稍冷后，放入干燥器中冷卻1h，在分析天平上稱至恒量（m2），并記錄。

    6 計(jì)算  按式（1）計(jì)算粉塵中游離二氧化硅的含量： ．．．（1） 式中：SiO2(F)——游離二氧化硅含量，%；  m1——坩堝質(zhì)量，g； m2——坩堝加沉渣質(zhì)量，g； G——粉塵樣品質(zhì)量，g。

    7 焦磷酸難溶物質(zhì)的處理  若粉塵中含有焦磷酸難溶的物質(zhì)時(shí)，如碳化硅、綠柱石、電氣石、黃玉等，需用氫氟酸在鉑坩堝中處理。方法如下：

    將帶有沉渣的濾紙放入鉑坩堝內(nèi)，如步驟4.5.5灼燒至恒量（m2），然后加入數(shù)滴9mol/L硫酸溶液，使沉渣全部濕潤。在通風(fēng)柜內(nèi)加入5ml~10ml 40%氫氟酸，稍加熱，使沉渣中游離二氧化硅溶解，繼續(xù)加熱至不冒白煙為止（要防止沸騰）。再于900℃下灼燒，稱至恒量（m3）。氫氟酸處理后游離二氧化硅含量按式（2）計(jì)算：

    式中：SiO2(F)——游離二氧化硅含量，%。

    m2——氫氟酸處理前坩堝加沉渣（游離二氧化硅+焦磷酸難溶的物質(zhì)）質(zhì)量，g。

    m3——氫氟酸處理后坩堝加沉渣（焦磷酸難溶的物質(zhì)）質(zhì)量，g。

    G——粉塵樣品質(zhì)量，g。

    游離二氧化硅檢測(cè)儀測(cè)試時(shí)的注意事項(xiàng)

    1 焦磷酸溶解硅酸鹽時(shí)溫度不得超過250℃，否則容易形成膠狀物。

    2 酸與水混合時(shí)應(yīng)緩慢并充分?jǐn)嚢?，避免形成膠狀物。

    3 樣品中含有碳酸鹽時(shí)，遇酸產(chǎn)生氣泡，宜緩慢加熱，以免樣品濺失。

    4 用氫氟酸處理時(shí)，必須在通風(fēng)柜內(nèi)操作，注意防止污染皮膚和吸入氫氟酸蒸氣。

    5 用鉑坩堝處理樣品時(shí)，過濾沉渣必須洗至無磷酸根反應(yīng)，否則會(huì)損壞鉑坩堝。